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第1037章
“与此同时，我会把一线实践过程中遇到的问题反向带回校园，与导师和同学们进行更有针对性，更深入的探讨。
我相信这种反向推敲，边学边用的模式也许会给清大的培养模式带来一些新的思考。”
他表达了对清大培养模式的尊重，同时有理有据的阐述了基地工作的独特价值，条理清晰不卑不亢。
龙老眼中闪过一抹赞赏的微光，笑着点了点头。
那位提问的教授虽然没有表示赞同，但紧皱的眉头到底舒展开来，没有继续追问。
紧接着，另一位专精于半导体领域的教授继续开口，问了一个更具体的技术问题。
“江南同学，请从物理学的角度谈谈，你认为在当前及未来亚纳米节点，极紫外光刻系统面临的最大物理挑战是什么？不仅仅是光源功率和透镜，我希望听到更本质的物理限制。”
这个问题非常专业且刁钻，对于研究生复试考试来说难度过大。
龙老坐直了椅背，有些担心的看了看江南。
随后，会议室里响起江南沉稳从容的声音。
“除了众所周知的光源转换效率与功率、光学系统设计与像差控制等工程难题外，从更基础的物理层面来看，我认为核心挑战至少体现在三个方面：”
他边说边思考，回答得流畅又有逻辑，可见是平时就有过深入思考。
。
“第一是量子效应带来的极限。
当特征尺寸逼近原子尺度，量子隧穿效应、尺寸效应会变得极其显著，传统的半导体器件物理模型会逐渐失效，材料的能带结构、载流子输运行为都会发生本质变化，这对光刻精度提出了近乎苛刻的要求，同时也意味着我们可能需要探索全新的器件架构，甚至是非硅基材料。”
“第二是光与物质相互作用在极紫外波段的特殊性。
EUV光子能量极高，几乎所有材料都会对其强烈吸收，这也就意味着我们没办法使用传统的透射式光学系统，而必须采用基于布拉格反射的多层膜反射镜。
但这带来了反射率提升难、膜层热稳定性、缺陷控制等一系列极其复杂的表面与界面物理问题......”
“第三是随机性问题。
在极紫外光刻中，由于光子数量有限、二次电子发射的统计涨落等，会引入显著的随机涨落效应，如线边缘粗糙度、随机缺陷等。
这已经不是一个简单的工艺控制问题，而是一个涉及统计物理、涨落理论的基础科学问题，需要从物理源头建立新的模型和理解。”
江南一开始回答的时候，在座几位教授还皱紧眉头有些担心。
等他说到最后，这些教授情不自禁得挑了挑眉，显然没有想到江南能够回答得这样完备又深入。
他们呼吸微微急促，眼底闪着欣慰赞赏的光芒，偏偏又不能表现出来，一个个憋得脸颊微红，倒像是对江南十分不满。
甚至有一位教授接连抛出了两三个与当前研究方向关联不大、颇为冷僻的物理学问题，像是故意刁难他！
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